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AF 32® 是一種無鹼玻璃，採用 SCHOTT 獨特的下拉式製程生產，可提供多樣的厚度規格、優異的光學透過率及卓越的表面品質。
SCHOTT AF 32® 具有與矽晶片相近的低熱膨脹係數，並具備高熱穩定性、高光學品質、優異的介電性能、低介電損耗因子及極低的表面粗糙度，使其成為半導體產業晶圓級封裝的理想選擇。
AF 32® 玻璃不含鹼，且生產過程中未添加砷與銻，即使在嚴苛環境下也能維持穩定性能，適合應用於多種產業領域。
AF 32® 的熱膨脹係數與矽晶圓相近，是各種封裝應用中兼具靈活性與可靠性的選擇。
SCHOTT AF 32® 是紅外線窄帶濾光片的理想基材，適用於 3D 影像及感測。它也是結構光、飛行時間（ToF）感測器、立體成像及雷射雷達（LiDAR）的關鍵組件，可實現人臉辨識、距離偵測和掃描等功能。相機自動對焦、視訊輔助、3D 建模、擴增實境及虛擬實境，也是其主要應用領域。
AF 32® 作為晶圓級封裝解決方案，具備卓越性能，並在相機成像領域發揮重要作用。由於其熱膨脹係數與矽晶圓相近，因此適合作為矽晶圓覆蓋層。SCHOTT 提供的 AF 32® 在尺寸、形狀和厚度方面具有高度靈活性，加上高且均勻的透光特性，使其成為適應性強且可靠的選擇。
AF 32® 與矽元件具有良好的相容性，因此在半導體系統中展現優異的應用效能。矽減薄已成為半導體元件製造的重要製程，而 AF 32® 可作為與矽進行臨時鍵合的解決方案。同樣的材料特性，也使其可作為 MEMS 應用中的高品質超薄玻璃蓋板或基板。
AF 32® 在射頻（RF）及高頻（HF）裝置中發揮關鍵作用，應用範圍涵蓋智慧型手機、穿戴式裝置及汽車等領域。AF 32® 具有極低的介電損耗，可作為表面聲波（SAW）濾波器的基板，實現電訊號與聲波之間的雙向轉換。這類濾波器有望在持續發展的 5G 通訊產業中扮演重要角色。
LCoS、Micro OLED 和 Micro LED 等微型顯示器，需要使用 AF 32® 等高品質玻璃組件，才能達到最佳性能。AF 32® 可提升光學傳輸品質，因此也適合應用於投影機、近眼（NTE）裝置、抬頭顯示器、頭戴式顯示器、電子取景器，以及擴增實境和虛擬實境系統。
無鹼 AF 32® 玻璃具有卓越的技術性能，包括高透光率及優異的介電性能。憑藉嚴格的幾何公差，以及與矽晶片相近的熱膨脹係數，這款獨特的玻璃可為眾多產業帶來廣泛的應用優勢。
AF 32® 的主要特點之一是不含鹼，因此非常適合應用於半導體系統。由於其熱膨脹係數與矽晶片相近，可作為半導體及微機電系統（MEMS）裝置中，矽晶片的高品質超薄玻璃蓋板或基板。
AF 32® 提供多種厚度規格，從極薄的 30 µm 至 0.5 mm。無論需要何種厚度，其總厚度變異（TTV）皆可嚴格控制，範圍為 ≤ 5 µm 至 ≤ 15 µm。
AF 32® 玻璃在可見光及近紅外線波段，皆具有穩定且優異的透光率。未鍍膜時的透光率最高可達 91.9%；加上抗反射鍍膜後，透光率可提升至 97%–99%。
AF 32® 的低介電損耗，使其適合應用於極高頻率領域。其熱膨脹係數（CTE）與矽相近，可與矽晶圓共同加工，例如讓 SAW 和 BAW 濾波器在 GHz 頻段下實現低插入損耗。
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