薄膜金屬化(DPC)
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陶瓷基板清洗
去除陶瓷基板表面的汙染物、油汙與微粒,確保後續製程的附著力與可靠性。
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種子層漸鍍
(Ti/Cu, TiW/Cu, Cr/Cu)
於陶瓷基板表面漸鍍種子層,提供後續電鍍的導電性與附著力。
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光阻塗佈
將光阻均勻塗佈於基板表面,形成感光層以進行圖形轉移。
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曝光顯影
透過光罩曝光後,進行顯影以形成所需的電路圖形。
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銅電鍍增厚
在圖形區域進行銅電鍍,使形層增厚,以達到所需的導電厚度。
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光阻去除
去除殘留的光阻,露出電鍍完成的銅線路。
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種子層蝕刻
蝕刻去除非電鍍區域的種子層(金屬層),完成電路圖形定義。
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表面處理
(ENIG、ENEPIG、Ni/Au等)
進行表面處理以提升可焊性、耐腐蝕性與長期可靠度。
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檢測與可靠度測試
進行外觀檢查(AOI)、電性測試及可靠度驗證,確保產品符合規格與客戶要求。
直接覆銅(DBC)
DBC製程利用銅與氧在高溫環境下形成共晶反應,將銅箔直接鍵結於陶瓷表面。
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陶瓷基板清洗
去除陶瓷基板表面的汙染物、油汙與微粒,確保接合品質。
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銅箔貼合
將高純度銅箔與陶瓷基板精準貼合,準備進行高溫接合。
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高溫共晶接合
在高溫爐中進行共晶反應,銅與陶瓷表面產生治金結合。
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線路蝕刻成型
透過光罩與濕式蝕刻製程,形成所需線路圖形與結構。
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表面處理
(Ni, Ni/Au, ENIG, ENEPIG)
進行表面處理以提升焊接性、耐氧化性與長期可靠度。
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檢測
進行外觀、線路、電性等檢測,確保產品符合品質標準。
由於銅層與陶瓷之間形成強固的冶金結合,因此具備極佳的熱傳導能力與機械強度。
活性金屬接合(AMB)
AMB技術利用含鈦(Ti)的活性金屬焊料,在高溫真空環境中與陶瓷表面產生化學反應,使銅箔與陶瓷形成強固的冶金接合。-
陶瓷基板清洗
去除陶瓷基板表面的粉塵、油汙及有機物,確保後續釬焊品質。
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活性釬料塗佈
在陶瓷基板待接合區域塗佈含活性元素(如Ti)的釬料,以促進陶瓷與金屬的治金結合。
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銅箔/銅片貼合
將高純度銅箔與銅片精準對位貼合於已塗佈釬料的陶瓷基板。
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高溫真空釬焊
在高溫真空環境下進行活性金屬釬焊,使釬料與陶瓷及銅材形成穩定的治金結合。
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電路圖形製作
透過光阻製程與蝕刻,製作所需的電路圖形與外型尺寸。
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表面處理
依需求進行表面處理(如Ni、Ni/Au、ENIG、ENEPIG等),提升焊接性、耐蝕性與可靠度。
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檢測
進行尺寸、外觀、結合強度與電性等檢測,確保符合規格要求。
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可靠度驗證
進行熱循環、功率循環、高溫高濕等可靠度測試,驗證產品於嚴苛環境下的長期穩定性。
厚膜印刷(Thick Film Printing)
厚膜印刷技術是利用導電金屬漿料透過精密網版轉印至陶瓷表面,再經燒結形成導電線路。常用金屬漿料包括:
•銀(Ag)
•銀鈀(Ag/Pd)
•金(Au)
•銅(Cu)
經過高溫燒結後,金屬與陶瓷形成穩定結合,產生良好的附著力與導電性能。
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陶瓷基板清洗
去除陶瓷基板表面的汙染物、油汙與微粒,確保良好附著力。
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銅版製作
依據電路設計製作精密網版,確保印刷圖形的精度與穩定性。
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導體漿料印刷
將導體漿料透過網版印刷於陶瓷基板表面,形成導體圖形。
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烘乾
烘乾印刷後的漿料,去除溶劑,避免燒結蝕產生氣孔。
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高溫燒結
在高溫環境下燒結,使導體漿料與陶瓷基板形成牢固結合。
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電阻或介電層印刷
依需求印刷電阻漿料或介電漿料,實現電阻、電容或絕緣功能。
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再次燒結
再次進行高溫燒結,使各層材料與基板充分結合,提升可靠度。
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表面處理
進行表面處理(Ni、Ni/Au、ENIG、ENEPIG),提升可焊性、耐腐蝕性與導電性。
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電性測試與檢驗
進行電性測試與外觀檢驗,確保產品符合設計規格與品質標準。
陶瓷金屬化(Ceramic-to-Metal Brazing)
由於陶瓷與金屬的熱膨脹係數、表面特性及材料結構差異極大,因此無法直接進行傳統焊接。-
立體陶瓷結構
依產品需求設計並製作高精度陶瓷結構
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陶瓷金屬化
透過金屬化技術在陶瓷表面形成牢固金屬結合層
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鍍鎳(Ni Plating)
進行電鍍鎳,提升焊接性、抗腐蝕性與結合強度
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真空硬焊
在真空環境中進行高溫硬焊,實現陶瓷與金屬的高強度接合
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氣密檢測
進行氫氣檢漏或壓力測試,確保產品達到高氣密標準
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成品驗證
進行外觀、尺寸與功能檢驗,確保產品品質符合規格
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服務項目
機械設備零件加工
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